光刻机是制造芯片的核心装备，提升光刻机的研发制造能力，对国产芯片发展进步至关重要。光刻机涉及多项复杂的先进技术，中国工程院谭久彬院士在《仪器仪表学报》2023年3期发表《超精密测量是支撑光刻机技术发展的基石》一文，文章对超精密测量技术在光刻机制造中的重要作用进行了阐述。

　　文章指出光刻机是尖端装备的珠穆朗玛峰。超精密测量是支撑光刻机产品研发与制造，保证光刻机产品制造精度等级与质量水平的基石。综述了光刻机产业的特点与发展趋势。在此基础上，从零部件、分系统、整机集成、整机性能层面阐述了超精密测量对光刻机技术发展的支撑作用。分析了光刻机产品精密能力提升的途径和超精密光刻机产业测量体系建立的必要性，包括管控超精密光刻机产品制造质量的工业测量体系和管控光刻机产品工业测量体系量值准确可靠的计量体系。提出了建设光刻机产业计量测试中心的必要性。

 

 

　　

　　中共党员，2017年当选中国工程院院士。现任哈尔滨工业大学精密仪器工程研究院院长、国家计量战略专家咨询委员会副主任、国际测量与仪器委员会（ICMI）常务委员、中国仪器仪表学会第九届理事会副理事长。长期从事超精密测量与仪器工程的科研与人才培养。面向高端装备制造质量提升的特殊需求，提出超精密仪器与装备精度调控方法及理论，研制成功4种国家级计量标准装置和21种大型超精密测量仪器与超大型超精密测试装备，创建了超精密仪器与装备精度调控技术体系与平台体系，解决了我国战略武装装备、航空发动机、高性能卫星相机等36各重大型号高端装备研制生产中的超精密测量与精度调控难题，显著提升了重大型号装备的精度水平。建成国内第一个超精密仪器研发基地和产业化基地。作为第一完成人，获国家技术发明奖一等奖1项，二等奖2项。