专利名称:   一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法
英文名称:  
专利号:   CN103265174A
专利类别:   C03C6/06,C03B19/02
专利证书号:  
申请号:   CN201310210094.0
第一发明人:   中国科学院西安光学精密机械研究所
申请日期:   2013-5-30
专利授权日期:  
国外申请日期:  
国外申请方式:  
缴费情况:  
实施情况:   审中
专利摘要:  
其它备注:  
   

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