中国科学院西安光学精密机械研究所

专利名称:

Dual-position loop control method and system of turntable based on harmonic speed reduction mechanism

英文名称:

专利号:

US20230333517A1

专利类别:

发明申请

专利证书号:

申请号:

US18/301500

第一发明人:

中国科学院西安光学精密机械研究所

申请日期:

2023-04-17

专利授权日期:

-

国外申请日期:

国外申请方式:

缴费情况:

实施情况:

专利摘要:

其它备注:

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