专利名称:   干涉型成像光谱仪内方位元素及畸变标定装置及方法
英文名称:  
专利号:   CN111707451A
专利类别:  
专利证书号:  
申请号:   CN202010461031.2
第一发明人:   中国科学院西安光学精密机械研究所
申请日期:   2020-05-27
专利授权日期:   2020-09-25
国外申请日期:  
国外申请方式:  
缴费情况:  
实施情况:   审中
专利摘要:  
其它备注:  
   

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