5月21日，西安光机所“第二届产品设计工艺性提升系列培训”第二场“光学元件面形检测技术及典型案例、电子学禁（限）用工艺及典型案例”培训会在祖同楼圆满举行。本次培训共有光电跟踪室、光谱室、空间室、飞行器室等十六个科研部门约60人参加。

总工艺师、先进制造部副部长李华研究员致开幕辞。他肯定了工艺技术中心组织的“产品设计工艺性提升系列培训”对年轻设计师跨界设计能力提升的益处，以及前期多场培训取得的良好效果。他强调正是通过培训，先进制造部各专业都有机会展示各自专业强有力的工艺手段和工艺方法，希望通过这样的培训，使研究所设计人员更好更快地了解产品制造过程中的新工艺，提升研究所产品设计的可制造性。

图 总工艺师、先进制造部副部长李华研究员致辞

检测技术研究中心的李晶针对光学元件面形检测，从检查技术研究中心能力、工艺审查及常见问题分析、合理化建议等方面进行了详细讲解。通过多个工程案例，详述了光学元件设计审查中出现的普遍问题，并给出相应建议。

图 李晶授课

工艺技术中心的岳学智针对电子学禁（限）用工艺内容，结合80多个典型案例，梳理了航天规范的具体条目，仔细解读了其技术要求，重点讲述了设计类、工艺类、操作类、调试类四大类内容。

图 岳学智授课

此次培训帮助参训职工进一步了解研究所光学元件面形检测技术现状和发展趋势以及电子学禁（限）用工艺，为研究所重大项目设计工作的开展提供有力的工艺支持。（工艺技术中心  供稿）