2019.3.29 专题报告:从光刻机厂商ASML的成长看高复杂度装备的产业化组织管理与开放式创新体系

        报告题目:从光刻机厂商ASML的成长看高复杂度装备的产业化组织管理与开放式创新体系

        报告人: 张少先

        形式:报告+交流

        时间: 2019329   9:30-11:30(周五)

        地点:西安光机所 陕西光电子集成电路先导技术研究院(西安市高新区上林苑一路15号)

        报告人简介:

        张少先,全球集成光子路线图组委会执行委员兼中国代表,中科院微电子所兼职研究员,主要从事硅基光子集成研究工作。于2006年在Eindhoven University of Technology(埃因霍温理工大学)获光电子学博士学位。

        2006-2010年,张少先博士在ASML公司从事光刻机光学畸变控制研发工作。此后,张少先博士在荷兰创办Vision and ActionV&A)公司,推动光电及相关领域的技术合作与产业化开发工作。曾携手二十多家在全球业界有顶尖技术水平的西欧地区技术型企业与研究机构,同国内行业龙头企业与研究院所开展国际技术合作与产业化开发工作,在光电及相关领域取得了突出成绩。

        报名及咨询:

        郭 嘉   15202985963  guojia@opt.ac.cn

        韩沈丹  18149255817   shendan.han@chinaoeic.com 

        请发送姓名+联系方式至以上邮箱,如驾车前往请提供车牌号码。

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