2000年--2001年度陕西省专利奖，经省专利奖评审委员会评审，陕西省知识产权局局长会议决定，对我省41项优秀专利项目授予陕西省专利奖。基中：特等奖1项，一等奖8项，二等奖18项，三等奖14项。我所光电子学室高鸿楷研究员和原我所职工张济康研究员发明了"气体旋转衬底座"专利荣获陕西省专利一等奖。
　　该专利用于半导体材料生长装置。特别是在金属有机物化学气相沉积设备中，装于晶体生长室内，解决晶体薄膜生长的均匀性和成品率问题。该项目利用气体动力学原理，采用气体箔技术，设计和加工了石墨基座，石墨托盘，在石墨基座上设有中央环行沟槽、进气通道和排气通道。关键技术是气体旋转衬底座的结构设计，气体流动曲线分布，圆弧型线槽的形状设计，包括圆弧线尺寸和深度，及加工精度设计。创造性贡献是设计出容易加工的各个部件，推动力最大的圆弧型线槽，既能在低压下旋转，也可在常压下旋转。总体技术水平达到当今国际先进、国内首创。
　　该项目的应用，明显的提高了晶体薄膜生长的均匀性，对促进我国光电器件研究的发展起到显著的效果。